Semiconductor Showerhead, tên tiếng Trung Quốc là đầu phun, đĩa phân phối khí hoặc đĩa đồng đều, là thành phần cốt lõi trong thiết bị sản xuất chất bán dẫn, đóng một vai trò quan trọng trong quá trình sản xuất chất bán dẫn 12. Nó có thể được áp dụng trong các thiết bị sản xuất trước chất bán dẫn như ETCH, CVD và các thiết bị khác. Có thể cung cấp tính nhất quán cao hơn của quá trình, ổn định, lặp lại.
Phụ tùng kim loạiShowerhead Trung QuốcĐầu phun, đĩa phân phối khí hoặc đĩa đồng nhất
Bán dẫn Showerhead, tên tiếng Trung Quốc là đầu phun, đĩa phân phối khí hoặc đĩa đồng đều, là thành phần cốt lõi trong thiết bị sản xuất chất bán dẫn, đóng một vai trò quan trọng trong quá trình sản xuất chất bán dẫn12. Đây là một cái nhìn chi tiết về nó:
Thiết kế kết cấu
Cấu trúc microporeBề mặt Showerhead bán dẫn được bao phủ bởi hàng trăm hoặc hàng nghìn lỗ thông hơi nhỏ, thường có khẩu độ từ 0,2-6mm. Kích thước, sự phân bố, hình dạng và góc phun của các lỗ nhỏ này được thiết kế chính xác theo quy trình cụ thể để đảm bảo khí có thể được phân phối đồng đều vào khoang phản ứng.2。
Kênh khíBên trong có cấu trúc kênh khí phức tạp để hướng dẫn và phân phối các loại khí khác nhau, cho phép chúng được trộn lẫn và phân phối đều trước khi đến khoang phản ứng để đáp ứng các yêu cầu chính xác về lưu lượng và nồng độ khí của quá trình bán dẫn.
Phân loại vật liệu1
kim loại showerhead: Vật liệu bao gồm hợp kim nhôm, thép không gỉ và kim loại niken, trong đó hợp kim nhôm là vật liệu được sử dụng bởi zuiguang Pan, vì nó có tính dẫn nhiệt tốt, khả năng chống ăn mòn mạnh, nguồn gốc rộng và dễ xử lý.
Showerhead phi kim loại: Vật liệu bao gồm silicon carbide (CVD-SiC), silicon đơn tinh thể, thủy tinh thạch anh và gốm có độ tinh khiết cao, v.v., chủ yếu được sử dụng trong các vị trí quy trình chính của thiết bị xử lý chip, chất lượng vật liệu và các bộ phận sau khi xử lý, đặc biệt là sự nhất quán của lỗ yêu cầu jigao.
Chức năng
Phân phối khí đồng đều: Phun tất cả các loại khí quá trình đồng đều lên bề mặt wafer trong buồng phản ứng, đảm bảo rằng các khu vực khác nhau của wafer có thể được "tắm" đồng đều trong khí quá trình, do đó nâng cao hiệu quả sản xuất và chất lượng sản phẩm, đảm bảo tính đồng nhất và nhất quán của lớp màng lắng đọng2。
Tham gia vào phản ứng hóa học: Trong các quá trình như lắng đọng hơi hóa học (CVD), Showerhead trộn và phun các loại khí tiền chất khác nhau lên bề mặt của lớp lót, làm cho chúng phản ứng hóa học trong các điều kiện nhất định để tạo thành các bộ phim mong muốn như silica oxit, silicon đa tinh thể, oxit kim loại, v.v.2。
Kiểm soát môi trường phản ứng: Được sử dụng để kiểm soát bầu không khí và nhiệt độ trong buồng phản ứng, cung cấp hỗn hợp khí chính xác và tạo ra khí đồng nhất ở vị trí mong muốn, đảm bảo phân phối khí đồng đều trong buồng phản ứng và đạt được quá trình lắng đọng ổn định2。
-
Hình thành điện trường đồng nhấtTrong các quá trình hỗ trợ plasma (ví dụ: PECVD, khắc khô), Showerhead hoạt động như một phần của điện cực để tạo ra một điện trường đồng nhất thông qua nguồn cung cấp RF, thúc đẩy sự phân bố đồng đều của plasma, do đó nâng cao tính đồng nhất của việc khắc hoặc lắng đọng2。
Lĩnh vực ứng dụng
Quá trình khắc: Trong thiết bị khắc, Showerhead được sử dụng để kiểm soát chính xác lưu lượng và phân phối khí khắc, đảm bảo khắc chính xác bề mặt wafer để tạo thành mô hình mạch và cấu trúc mong muốn4。
Quy trình lắng đọng: Chẳng hạn như lắng đọng hơi hóa học (CVD), lắng đọng hơi vật lý (PVD), v.v., Showerhead vận chuyển đồng đều khí tiền thân của vật liệu lắng đọng lên bề mặt wafer để đạt được sự tăng trưởng và lắng đọng của màng2。
Quy trình làm sạch: Trong thiết bị làm sạch chất bán dẫn, Showerhead có thể phun chất lỏng làm sạch hoặc khí đều lên bề mặt wafer, loại bỏ tạp chất và chất gây ô nhiễm khỏi bề mặt và đảm bảo độ sạch của wafer.
