Bộ điều khiển lưu lượng khối MFC T Series MFC sử dụng cảm biến nhiệt+van solenoid nhiệt thấp+công nghệ cảm biến áp suất $r $n để đáp ứng độ chính xác đo chính thống ≤ 1,0% SP (25% - 100% FS) $r $n Sản phẩm công nghiệp đối chiếu lặp lại (≤ 0,2% FS)
Bộ điều khiển lưu lượng chất lượng MFCDòng T MFC
Áp dụng cảm biến nhiệt+van điện từ nhiệt thấp+công nghệ cảm biến áp suấtĐáp ứng độ chính xác đo chính ≤ ± 1,0% SP (25% - 100% FS) Sản phẩm công nghiệp đối chiếu lặp lại (≤ ± 0,2% FS).
Nguyên tắc đo nhiệt: Sử dụng hai cảm biến nhiệt độ, một để đo nhiệt độ ban đầu của khí, một để đo nhiệt độ của khí sau khi được làm nóng, bằng cách tính toán chênh lệch nhiệt độ và kết hợp với dung tích nhiệt cụ thể của khí, để tính toán chính xác lưu lượng khối của khí, mà không cần bù đắp cho sự thay đổi áp suất và nhiệt độ, tăng độ chính xác của phép đo1。
Nguyên tắc đo chênh lệch áp suất: Bằng cảm biến lưu lượng chênh lệch áp suất đo thời gian thực chênh lệch áp suất tạo ra khi khí chảy qua phần tử điều tiết để tính toán lưu lượng thể tích của khí, van điều khiển theo đo lường và phản hồi của cảm biến lưu lượng, điều chỉnh chính xác độ mở để đảm bảo lưu lượng khí qua MFC phù hợp với giá trị đặt trước2。
Đo lường độ chính xác cao: Sử dụng công nghệ cảm biến tiên tiến và quy trình sản xuất, nó có thể đạt được phép đo và kiểm soát lưu lượng khí chính xác cao, lỗi đo có thể thấp tới ± 0,5% số đọc, độ lặp lại đạt ± 0,1%, đáp ứng các yêu cầu khắt khe về biến động dòng chảy nano trong lĩnh vực chất bán dẫn và gaoduan khác3。
Phản hồi nhanh: Được trang bị bộ điều khiển PID và van điện từ tốc độ cao, các thành phần này có thể điều chỉnh độ lệch của dòng chảy trong thời gian mili giây, thời gian đáp ứng thường nhỏ hơn 100ms, có thể phản ứng kịp thời với các thay đổi động khác nhau để đảm bảo dòng chảy ổn định1。
Phạm vi rộng: Phạm vi bảo hiểm rộng, từ lưu lượng nhỏ đến cảnh tốc độ dòng chảy cao có thể phù hợp, chẳng hạn như có thể bao gồm phạm vi từ 0.1sccm đến 20000slpm, đáp ứng nhu cầu của các tình huống ứng dụng khác nhau3。
Tương thích đa khí: Hỗ trợ đo lường và kiểm soát chính xác nhiều loại khí như N₂, Ar, H₂, SiH₄, NH₃, CF₄ và các loại khí phổ biến khác, đảm bảo duy trì độ chính xác cao trong các phép đo khí khác nhau thông qua công nghệ hiệu chuẩn đa khí14。
Ổn định tốtCác thành phần quan trọng như cảm biến và các yếu tố làm nóng thường sử dụng công nghệ điều khiển nhiệt độ không đổi để giảm tác động của độ trôi nhiệt độ đối với độ chính xác của phép đo. Trong khi đó, quá trình hàn laser được sử dụng để tạo ra dòng chảy để tránh sự xuất hiện của hiện tượng rò rỉ một cách hiệu quả, do đó đảm bảo độ chính xác và ổn định lâu dài của kết quả đo lường1。
Nhiều giao diện truyền thông: Được trang bị RS485, Profibus và các giao diện truyền thông khác, hỗ trợ màn hình cảm ứng hiển thị thời gian thực nhiệt độ, áp suất, điều kiện tiêu chuẩn/lưu lượng điều kiện làm việc và các thông số khác, thuận tiện cho người dùng vận hành và giám sát từ xa, có thể tích hợp với các hệ thống điều khiển tự động khác nhau3。
Sản xuất chất bán dẫn và điện tử: Trong quá trình gia công wafer, lắng đọng màng (CVD/PVD) và khắc (Etching), dòng khí phản ứng được kiểm soát chính xác để đảm bảo sự ổn định của quá trình và hiệu suất chip.
Công nghiệp hóa chất và dược phẩm: Được sử dụng trong quá trình phản ứng hóa học để kiểm soát lưu lượng khí trong lò phản ứng như O₂, CO ₂, v.v., tối ưu hóa tốc độ phản ứng và chất lượng sản phẩm.
Năng lượng mới và sản xuất pin nhiên liệu: Điều chỉnh lưu lượng đầu vào của hydro và oxy, tối ưu hóa hiệu quả phản ứng điện hóa và công suất đầu ra pin, đồng thời cũng có thể được sử dụng để kiểm soát tách và lưu lượng oxy và hydro trong quá trình điện phân, cũng như quản lý lưu lượng khí trong quá trình thu và nén CO ₂.
Giám sát môi trường và phòng thí nghiệm: Cung cấp lưu lượng khí tiêu chuẩn cho các thiết bị như sắc ký khí (GC), quang phổ khối (MS), cũng có thể được sử dụng để kiểm soát chính xác lưu lượng lấy mẫu khí của các thiết bị giám sát môi trường như PM2.5, phát hiện VOC, v.v.
