WafIR ™ Xác định ATR

Có thể đàm phánCập nhật vào10/18

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Bề mặt lấy mẫu ngang không bị cản trở có thể chứa các wafer có đường kính từ 52 x 10 mm đến 203 mm (8 inch). Phương pháp lấy mẫu không tiếp xúc; Tiếp xúc với các tinh thể ghép nối nằm ngoài khu vực đo. Độ nhạy cao do nhiều phản xạ. Đối với một wafer dày 0,770 mm, nó cung cấp 33 phản xạ từ bề mặt phủ.

Chi tiết sản phẩm

Sản phẩm WafIR™Xác định waferATR

WafIR™ Là một mức độATRPhụ kiện để phân tích một lớp duy nhất và các lớp phủ mỏng khác được áp dụng cho một bên của wafer đánh bóng hai mặt. Nó có một45° Tinh thể silicon ở góc tới, có thể ghép ánh sáng vào bên trong và bên ngoài wafer.WafIRBao gồm một bộ áp lực với một miếng đệm áp lực, được thiết kế để đạt được tiếp xúc tối ưu với * khu vực tiếp xúc nhỏ bên ngoài khu vực đo lường. Bộ áp suất bao gồm một ly hợp trượt để hạn chế tổng lực tác dụng lên mẫu và tương thích với cờ lê mô-men xoắn cho khả năng lặp lại.WafIRHoàn toàn khép kín, được sử dụng để làm sạch nhanh chóng, với hầu hếtFTIRMáy quang phổ tương thích.

Tính năng

Bề mặt lấy mẫu ngang không bị cản trở có thể chứa đường kính từ52 x 10 mmđến203 mm（8In - tơ - nét.

Phương pháp lấy mẫu không tiếp xúc; Tiếp xúc với các tinh thể ghép nối nằm ngoài khu vực đo.

Độ nhạy cao do nhiều phản xạ.

Đối với0.770wafer dày mm, được cung cấp từ bề mặt phủ33Phản xạ phụ.

cố định45Góc tới.

Tinh thể ghép nối silicon có thể thay thế.

Bộ ly hợp trượt tích hợp giới hạn tổng lực tác dụng lên mẫu.

Bộ áp suất độc đáo với miếng đệm để giảm thiểu tiếp xúc với mẫu.

Dễ dàng căn chỉnh và sử dụng.

PermaPurge™ Các mẫu có thể được thay đổi nhanh chóng mà không làm gián đoạn quá trình làm sạch.

bao gồm

Silicone kết hợp tinh thểWafIR。

Chỉ định phần cứng đồng bộ của máy quang phổ.

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị