Ống kính tập trung cho laser excimer sigma

Giới thiệu sản phẩm

Bao gồm 2 hoặc 3 quán kính hình cầu, điều chỉnh sự khác biệt về bóng và sự khác biệt về thông minh.
Nó cũng có thể được sử dụng như một thấu kính tập trung cho laser excimer KrF (248nm), laser YAG cho 4 sóng hài (266nm) và 3 sóng hài (355nm).
Ống kính dưới NA0.1, đường kính điểm lấy nét sau khi chụp ảnh laser chuẩn trực gần với giới hạn nhiễu xạ. (ETL dưới 0,25)

▶ Thực hiện các sản phẩm ngoài danh mục sản phẩm sản xuất bằng laser xung năng lượng cao hoặc các sản phẩm có bước sóng được chỉ định.
▶ Theo các chỉ số kỹ thuật của khách hàng, hàng trăm đơn vị sản xuất hàng loạt có thể được thực hiện.
▶ Để bảo vệ ống kính khỏi bị hư hại bởi bột bắn ra trong quá trình xử lý laser, kính cửa sổ bảo vệ được bán riêng có thể được cấu hình.

▶ Đối với độ dài tiêu cự của từng bước sóng, hãy tham khảo [Bảng quan hệ thay đổi độ dài tiêu cự theo bước sóng] của trang web.

▶ Các thấu kính tập trung cho phép các vật thể ở xa vô hạn hình ảnh ở vị trí lấy nét hoặc chuyển đổi các nguồn sáng điểm thành ánh sáng song song. Hiệu suất quang học của ống kính sẽ không được phát huy đầy đủ nếu chụp ảnh các vật thể ở gần.
▶ Các ánh sáng đến phải đi vào các thấu kính tập trung từ hướng chỉ định, nhất định phải làm cho ánh sáng bình hành từ phía trên (con dấu được khắc là văn bản chính lập) vào trong các thấu kính. Nếu ánh sáng tới được chiếu vào ống kính từ hướng ngược lại, nó sẽ làm cho chênh lệch bóng xấu đi, điểm lấy nét lớn hơn và hình ảnh bị mờ.
▶ Khi được sử dụng trong các điều kiện ngoài bước sóng thiết kế, nó dẫn đến sự khác biệt bóng xấu đi và tỷ lệ truyền thấp hơn.
▶ Việc sử dụng laser công suất cao, hoặc khi được sử dụng gần nguồn nhiệt, có thể làm tăng nhiệt độ ống kính tập trung và thay đổi độ dài tiêu cự. Nếu sử dụng trong thời gian dài nhất định phải có biện pháp tản nhiệt tốt.
▶ Ống kính tập trung này không phải là ống kính khử màu và không có sự khác biệt màu được điều chỉnh.
▶ Phản xạ bề mặt của ống kính (4%) sẽ gây ra khoảng 20% tổn thất truyền qua.