Đức PlasmaQuant Jena ® Máy đo phổ khối plasma tự cảm MS

PlasmaQuant®MS ICP-MS：

(1)Plasma tiết kiệm nhất: Để có được plasma ổn định và mạnh mẽ, lượng khí argon tiêu thụ chỉ bằng một nửa so với các thiết bị thông thường;

(2)Bể phản ứng va chạm iCRC được cấp bằng sáng chế: Hiệu quả loại bỏ nhiễu phân tử đa nguyên tử, không làm mất độ nhạy của các yếu tố gây nhiễu khác để đạt được hiệu quả phản ứng va chạm tốt hơn; Chuyển đổi khí nhanh chóng và không cần bảo trì thêm;

(3)ReflexIONCông nghệ phản xạ ion:3DGương ion tập trung có được độ nhạy vô song, độ nhạy của nó đạt hơn 5 lần so với các sản phẩm tương tự;

(4)Bốn cực phân tích cao:3MHzTốc độ quét, có thể đạt được phân tách khối phổ hoàn mỹ; Phát hiện thời gian cư trú thấp đến 50μs；

(5)Máy dò kép kỹ thuật số và analog: cả haiPhạm vi động tuyến tính 10 bậc độ lớn được cung cấp trong chế độ công nghệ xung và cũng có thể được thực hiện trong chế độ chế độ kép.

(6)Hệ thống chân không với hiệu suất cao:Khởi động lạnh 5 phút có thể đạt tiêu chuẩn làm mẫu, độ chân không có thể đạt được10^-9τ; Bơm turbo phân tử kép với tải trọng chung dưới 50% và tuổi thọ dài hơn.

Công nghệ này cho phép PlasmaQuant®MSMột bước tiến mới về độ nhạy, phạm vi tuyến tính, giới hạn phát hiện, ổn định, v.v. Nó cũng có thể được trang bị với các thành phần phòng sạch, hệ thống nhập mẫu, bộ nạp mẫu tự động và các phụ kiện khác. Nó có thể linh hoạt và nhanh chóng nhận ra sự chuyển đổi giữa chế độ nhạy thông thường và chế độ nhạy cao, đáp ứng các ứng dụng khác nhau của phân tích hàng ngày và cấp độ nghiên cứu.