Nguồn ion KRI Hall eH 400

Có thể đàm phánCập nhật vào07/20

Mô hình

Thiên nhiên của nhà sản xuất: Nhà sản xuất

Danh mục sản phẩm

Nơi xuất xứ

Tư vấn trực tuyến

Tổng quan

Thượng Hải Berdong Đại lý Mỹ Kauffman thành lập công ty KRI Hall Ion Source eH 400 Thiết kế chi phí thấp cung cấp dòng điện ion cao, Hall Ion Source eH 400 Kích thước và năng lượng ion đặc biệt thích hợp cho các hệ thống chân không vừa và nhỏ, có thể kiểm soát năng lượng ion thấp hơn, thường được áp dụng cho lớp phủ hỗ trợ ion, làm sạch trước và khắc ion năng lượng thấp. Kích thước: Đường kính=3,7 Chiều cao=3 Điện áp xả/dòng điện: 50-300eV/5a Khí hoạt động: Ar, Xe, Kr, O2, N2, Tiền chất hữu cơ

Chi tiết sản phẩm

Mỹ KRI Hall Ion Source eH 400 Tính năng sản phẩm:

Bá ĐôngKRINguồn ion HalleH 400Tính năng:

1.Lắp ráp anode có thể tháo rời-Bảo trì dễ dàng;Khi bảo trì,Giảm thiểu downtime;Cắm và chạy anode dự phòng

2.Dòng xả cao chùm rộng-Tỷ lệ khắc đồng nhất;Hiệu quả khắc cao;Lớp phủ hỗ trợ ion caoIADHiệu quả

3.Đa mục đích-Áp dụng choLoad lock /Hệ thống chân không siêu cao

4.Chuyển đổi plasma hiệu quả cao và kiểm soát năng lượng ổn định

Sản phẩm tương tự Khuyến nghị